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濺射靶材(Sputtering Targets)

能用於HDD記錄媒體、磁頭、MRAM、Coating…等用途。

靶材製造實績

靶材製程

○真空熔融 ─ 不活性氣體噴霧法 → 產品高純度化

○採用最佳固化成型技術 → 產品高密度化

特點

用真空熔融及惰性氣體噴霧法製造而成的金屬粉末,配合山陽獨家的粉末成型技術,製造出組織細微、成分一致性高的靶材。

採用最佳的粉末成型技術,生產出高密度的靶材。

由於山陽的靶材因組織細微而具備了高靶材表面漏磁率( PTF,Pass Through Flux)、高韌性化的特性,能幫助顧客其產能大幅提高。

山陽擁有製造Fe基、Co基、Ni基、Cr基合金等各種合金組成的實績之外,也能夠依據顧客的需求進行特殊合金設計的開發。

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